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    OLED蒸镀体系

    OLED Cluster Deposition System

    设置装备摆设简介

     拥有3套先辈的OLED蒸镀设置装备摆设,可在高真空情况下准确完成无机质料、金属复合物质料、金属质料的蒸发镀膜。该体系含有3个无机腔体和1个金属腔体,并含有加热冷却、PLASMA处置单位,可完成器件的全主动制备。

    根本技能参数

    Basic technical parameters

     1.蒸起源数目: 30个

     2.蒸起源温度: RT~500℃ (高温源)/1300℃.

     3,成膜正确性和匀称性:无机±3%、金属±5%

     4.最低可控蒸镀速率: 0.002nm/sec.

     5. Mask对位精度: 100um(机器对位)。

     6. Subshutter功效:可完成统一片基板上疾速多条件制备器件。

    

    Copyright © 2018 宁波九游会新质料有限公司        技能支持:穿石科技